Вы профессионал? Свяжитесь
Вы профессионал? Свяжитесь
Заявка на регистрацию
г. Москва, Открытое шоссе д.12 стр.3
Войти
Логин
Пароль
Профессиональная итальянская косметика для лица и тела
Заказать звонок
Логин
Пароль

LEVIOSA DNA Recovery Mask Восстанавливающая маска

Артикул: HP05P05VA
Профессиональная маска клеточного и эпидермального восстановления.
Линия - LEVIOSA;
Объем - 200 мл;
Форма выпуска - Маска;
Назначение - для лица, шеи и декольте;
Эффект - восстановление, питание, увлажнение;
Все характеристики
Профессиональная маска клеточного и эпидермального восстановления после химических и механических пилингов, агрессивных аппаратных процедур. Моментально устраняет реактивность кожи при состояниях повышенной чувствительности и склонности к покраснениям.
Оказывает антиоксидантную поддержку, нейтрализует свободные радикалы, уменьшает поствоспалительную гиперпигментацию.
Укрепляет защитный барьер, восстанавливает гидратацию, улучшает микроциркуляцию.

Ключевые компоненты:
• Липиды плодов томата
• Экзосомы центеллы азиатской
• ФИТО-ПДРН
• Витамин E и витамин C в стабильной форме
• Масло ши, натрия гиалуронат
Линия
LEVIOSA
Объем
200 мл
Форма выпуска
Маска
Назначение
для лица, шеи и декольте
Эффект
восстановление, питание, увлажнение
Активные ингредиенты
Липиды плодов томата, экзосомы центеллы азиатской, ФИТО-ПДРН, Витамин E и витамин C в стабильной форме, Масло ши, натрия гиалуронат
Тип использования
Профессиональное использование
Бренд
Histomer
Страна производства
Италия
Торговое наименование
HISTOMER LEVIOSA DNA RECOVERY MASK, 200 ml
Состав
AQUA, ETHYLHEXYL STEARATE, GLYCERIN, KAOLIN, CETEARYL ALCOHOL, ARACHIDYL ALCOHOL, CETEARYL ISONONANOATE, GLYCERYL STEARATE, PRUNUS AMYGDALUS DULCIS OIL, BEHENYL ALCOHOL, TITANIUM DIOXIDE, STEVIOSIDE, TRITICUM VULGARE SPROUT EXTRACT, HORDEUM VULGARE SPROUT EXTRACT, DNA, SOLANUM LYCOPERSICUM FRUIT LIPIDS, CENTELLA ASIATICA LEAF VESICLES, TOCOPHERYL ACETATE, BUTYROSPERMUM PARKII BUTTER, SODIUM HYALURONATE, POTASSIUM CETYL PHOSPHATE, 1,2-HEXANEDIOL, POLYACRYLATE CROSSPOLYMER-6, ARACHIDYL GLUCOSIDE, HYDROXYACETOPHENONE, PARFUM, XANTHAN GUM, ACRYLATES/PALMETH-25 ACRYLATE COPOLYMER, CAPRYLYL GLYCOL, CAPRYLHYDROXAMIC ACID, ETHYLHEXYLGLYCERIN, LECITHIN, SODIUM HYDROXIDE, TETRASODIUM GLUTAMATE DIACETATE, TOCOPHEROL, ASCORBYL PALMITATE, BUTYLENE GLYCOL, CI 42090, CITRIC ACID. *Актуальный список ингредиентов смотрите на упаковке продукта. Изменения состава возможны по причине запрета в ЕС Научный комитет по безопасности потребителей (Scientific Committee on Consumer Safety, SCCS).
Применение
Для профессионального применения.
AQUA, ETHYLHEXYL STEARATE, GLYCERIN, KAOLIN, CETEARYL ALCOHOL, ARACHIDYL ALCOHOL, CETEARYL ISONONANOATE, GLYCERYL STEARATE, PRUNUS AMYGDALUS DULCIS OIL, BEHENYL ALCOHOL, TITANIUM DIOXIDE, STEVIOSIDE, TRITICUM VULGARE SPROUT EXTRACT, HORDEUM VULGARE SPROUT EXTRACT, DNA, SOLANUM LYCOPERSICUM FRUIT LIPIDS, CENTELLA ASIATICA LEAF VESICLES, TOCOPHERYL ACETATE, BUTYROSPERMUM PARKII BUTTER, SODIUM HYALURONATE, POTASSIUM CETYL PHOSPHATE, 1,2-HEXANEDIOL, POLYACRYLATE CROSSPOLYMER-6, ARACHIDYL GLUCOSIDE, HYDROXYACETOPHENONE, PARFUM, XANTHAN GUM, ACRYLATES/PALMETH-25 ACRYLATE COPOLYMER, CAPRYLYL GLYCOL, CAPRYLHYDROXAMIC ACID, ETHYLHEXYLGLYCERIN, LECITHIN, SODIUM HYDROXIDE, TETRASODIUM GLUTAMATE DIACETATE, TOCOPHEROL, ASCORBYL PALMITATE, BUTYLENE GLYCOL, CI 42090, CITRIC ACID. *Актуальный список ингредиентов смотрите на упаковке продукта. Изменения состава возможны по причине запрета в ЕС Научный комитет по безопасности потребителей (Scientific Committee on Consumer Safety, SCCS).
Для профессионального применения.
LEVIOSA DNA Recovery Mask Восстанавливающая маска